針對微影製程效益最大化的曲線光罩圖形

傳統上，隨著半導體產業從一個製程節點移動到下一個更小的製程節點，臨界尺寸(CD)控制要求已經變得更加嚴苛；半導體產業已經開發許多方法來達到現行的圖案縮放。曲線光罩圖形化是一項尖端光刻技術，有望透過解決複雜的設計挑戰和關鍵的良率限制因素將光刻效益最大化。然而，顥著的運算挑戰限制了它被廣泛部署的機會。本文提到的實用解決方案，可做為克服與光刻製程技術相關的運算挑戰以及製程曲線光罩的困難之參考。

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